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परिचय
एच प्रकार सिलिका एल्यूमिना जेल जिसे सिलिका एल्यूमिना ऑक्साइड जेल एच या सिलिका जेल एच के रूप में भी जाना जाता है, एक अनाकार छिद्रपूर्ण अवशोषक पदार्थ है जिसमें मैट्रिक्स के रूप में सिलिका जेल और संशोधन के लिए उचित मात्रा में एल्यूमिना शामिल होता है। यह सामग्री छिद्र संरचना, सतह अम्लता, जल प्रतिरोध और थर्मल स्थिरता के मामले में सामान्य सिलिका जेल से काफी बेहतर प्रदर्शन करती है।
सिलिका एल्युमिना जेल एच का छिद्र आकार टाइप ए (बारीक - छिद्र सिलिका जेल) और प्रकार सी (मोटे - छिद्र सिलिका जेल) के बीच होता है, जो संकर - छिद्र मिश्रित सिलिका जेल से संबंधित है। इसमें एक समान छिद्र संरचना, उच्च प्रतिक्रियाशीलता, बड़े विशिष्ट सतह क्षेत्र और स्थिर सोखने का प्रदर्शन होता है, इसलिए इसे अक्सर सोखने वाले, शोषक या वाहक के रूप में उपयोग किया जाता है।
औद्योगिक अनुप्रयोगों में, सिलिका जेल एच का उपयोग मुख्य रूप से उत्प्रेरक समर्थन, हाइड्रोकार्बन शुद्धिकरण, पेट्रोकेमिकल्स और अन्य परिदृश्यों में किया जाता है जिनके लिए उच्च गतिविधि और अम्लता की आवश्यकता होती है। उदाहरण के लिए: टीएसए तापमान{{1}स्विचिंग सोखना और उच्च{2}तापमान पुनर्जनन; प्राकृतिक गैस शुद्धि और हाइड्रोकार्बन शुद्धि; और पेट्रोकेमिकल हाइड्रोजनीकरण उत्प्रेरक वाहक और धातु उत्प्रेरक वाहक।



तकनीकी विशिष्टता
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प्रकार |
सिलिका एलुमिना जेल एच |
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रासायनिक सूत्र |
mSiO2. एनएएल2O3. एक्सएच2O |
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दिखावट |
फीके पीले मोती |
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व्यास(मिमी) |
1-3, 2-4, 2-5, 3-5 |
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SiO2(%) |
97 |
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अल2O3(%) |
3 |
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सोखने की क्षमता(25 डिग्री, %wt) |
आरएच10% |
5.5 से अधिक या उसके बराबर |
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आरएच20% |
9.0 से अधिक या उसके बराबर |
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आरएच40% |
19.5 से अधिक या उसके बराबर |
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आरएच60% |
34.0 से अधिक या उसके बराबर |
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आरएच80% |
44.0 से अधिक या उसके बराबर |
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थोक घनत्व(जी/एमएल) |
0.6-0.8 |
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क्रश स्ट्रेंथ(एन) |
180 से अधिक या उसके बराबर |
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सतह क्षेत्र(एम2/g) |
650-750 |
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छिद्र की मात्रा (सेमी3/g) |
0.4-0.6 |
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घिसाव अनुपात(%) |
0.1 से कम या उसके बराबर |
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पानी की मात्रा(%) |
3.0 से कम या उसके बराबर |
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आवेदन
- पेट्रोकेमिकल हाइड्रोकार्बन शुद्धिकरण
- प्राकृतिक गैस प्रसंस्करण
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उत्प्रेरक और उत्प्रेरक वाहक
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